2013/10/17 ACS Nano誌に論文掲載（Mark） 特任助教のMarkの論文がACS Nano に掲載されました。歪み印加によってグラフェンの反応性を10倍にまで高めることができるという興味深い結果です。 一覧へ
に掲載されました。歪み印加によってグラフェンの反応性を10倍にまで高めることができるという興味深い結果です。