合成関連装置
- 熱CVD装置（計12台）
- グラフェン、hBN、TMDなど様々な二次元物質の合成に利用します
- 4インチ熱CVD装置
- 直径10cmの大⾯積グラフェンの合成に利用します
- スパッタ装置（芝浦メカトロニクスCFS-4ES）
- 二次元物質の成⻑触媒となる遷移金属の薄膜を作るために利用します
- ロードロック式スパッタ装置（芝浦メカトロニクス i-Miller）
- 二次元物質の成⻑触媒となる遷移金属の薄膜、を真空を破ることなく、大⾯積に作るために利用します
- グローブボックス（グローブボックス・ジャパン）2台
- 空気中で不安定な物質を劣化させないため、窒素雰囲気下で取り扱うために利用します
- 真空アニール装置（アルバック MILA-3000）
- 高速で温度を上げて、加熱処理を行うために利用します
解析装置
- SEM（日立ハイテクノロジーズ S-4800）
EDS (ブルカー XFlash5060FQ)
- 二次元物質やデバイスの構造や組成の測定に利用します
- 顕微ラマン分光器（東京インスツルメンツNanofinder 30)
- 二次元物質の電子状態や層数、結晶性などの測定に利用します
- AFM（ブルカー Nanoscope V)
- 二次元物質や基板表⾯の微細な構造の測定に利用します
- デジタルマイクロスコープ（KEYENCE VHX-7000）
- 二次元物質やデバイスの構造の測定に利用します
- レーザーマイクロスコープ（Lasertech OPTELICS HYBRID）
- 通常の光学顕微鏡では観察が困難な表⾯の測定に利用します
- UV-VIS-NIR分光器（SHIMADZU UV-3600 ）
- 各種サンプルの光吸収の測定に利用します
デバイス作製装置
- スピンコーター（ミカサ MS-B100）
- パターニング用のフォトレジストを基板に塗布するために利用します
- マスクレス露光装置（ネオアーク PALET）
- フォーカスした紫外線を使ってフォトレジストのパターニングをするのに利用します
- マスクアライナー（共和理研）
- フォトマスを使ってフォトレジストのパターニングをするのに利用します
- EB蒸着装置（ケニックス KB-750）
- 電子線を使って電極などを基板に蒸着するために利用します
- 真空蒸着装置（アルバック VPC-400）
- 通電加熱によって電極などを基板に蒸着するために利用します
- プラズマリアクター（ヤマト科学 PR500）
UVオゾンリアクター（フィルジェン UV253）
デバイス評価装置
- 半導体デバイス・パラメータ・アナライザ（Keysight B1500A）2台
- トランジスタなどのデバイスの特性評価に利用します
- 温度可変真空プローバー（共和理研）2台
- トランジスタや光センサを真空下や低温で測定するために利用します
- 電磁石付き極低温プローバー（サーマルブロック）
- 極低温や磁場中でのデバイス測定をするために利用します