利用機器リスト
以下の装置が共同利用可能です。詳細についてはご相談ください。
| 装置種類 | 型番 | 備考 |
|---|---|---|
| ECRスパッタリング装置 | 3400UD | 最大4inch、SiO2、SiN等 |
| 原子層堆積(ALD)装置 | SP561-AL | HfO2, Al2O3等 |
| 超高真空スパッタリング装置 | SPQ-203T | 2インチRFマグネトロン 1基、SiO2等 |
| マグネトロンスパッタリング装置 | SPQ-303T | 2インチRFマグネトロン 3基、Ti、TiN等 |
| 三源マグネトロンスパッタリング装置 | L-100-HF | 2インチRFマグネトロン 3基、Pt、Y、SiO2等 |
| Al蒸着装置 | RHQ-06TP | 抵抗加熱 |
| 電子ビーム蒸着装置 | UL-400EB | |
| 酸化/アニール炉 | KTF-773N | |
| ウェット酸化/拡散炉 | – | 最高温度: 1100℃、2 inch |
| 高温処理炉 | KTF433NKN | |
| マスクアライナー | M-2LF | 4 or 6inch |
| マスクアライナー | MA-1200A | |
| 反応性イオンエッチング装置 | ULVAC NE-701 | 使用ガス: CF4, CHF3 |
| エリプソメーター | MARY-102 | |
| 光学顕微鏡 | ECLIPSE ME600L | |
| 小型プラズマ装置 | PR200 | サンプル表面の改質、クリーニング |