九州大学グローバルイノベーションセンター 機能デバイス領域

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1F 第1クリーンルーム

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成膜装置

ECRスパッタリング装置

原子層堆積 (ALD) 装置

超高真空スパッタリング装置

小型マグネトロンスパッタリング装置

三源マグネトロンスパッタリング装置

Al蒸着装置

電子ビーム蒸着装置
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熱処理装置

急速加熱装置 (RTA)

酸化/アニール炉

ウェット酸化炉/拡散炉

高温処理炉
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その他

マスクアライナー (ミカサ(株)製)

マスクアライナー (大日本印刷社製)

反応性イオンエッチング装置

クリーンベンチ

エリプソメトリー

光学顕微鏡

小型プラズマ装置
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  • 共通実験機器室
  • D棟 2階 205号室
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